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《化学分析计量》 2020年第03期
DOI:10.3969/j.issn.1008-6145.2020.03.007
电感耦合等离子体发射光谱法测定高纯铝中硅
谢文博1,李刚2,杨峥2,张佩佩2,叶晓英2
1.中国航空发动机集团有限公司,北京 100097; 2.中国航发北京航空材料研究院,航空材料检测与评价北京市重点实验室,中国航空发动机集团材料检测与评价重点实验室,北京 100095 
Determination of silicon in high purity aluminum by inductively coupled plasma atomic emission spectrometry
XIE Wenbo1, LI Gang2, YANG Zheng2, ZHANG Peipei2, YE Xiaoying2
1. Aero Engine Corporation of China, Beijing 100097, China; 2. Beijing Key Laboratory of Aeronautical Materials Testing and Evaluation, Key Laboratory of Science and Technology on Aeronautical Materials Testing and Evaluation of Aero Engine Corporation of China, AECC Beijing Institute of Aeronautical Materials, Beijing 100095, China 
摘要:建立电感耦合等离子体发射光谱(ICP-AES)法测定高纯铝中硅元素的分析方法。样品采用碱溶法进行预处理,以氢氧化钠溶液溶解,再加入盐酸、硝酸酸化。选取了硅251.611 nm分析谱线进行分析。硅的质量分数在0.001%~0.01%范围内与光谱强度具有良好的线性关系,线性相关系数为0.9991。该方法检出限为0.00012%,测定结果的相对标准偏差不大于10.2%(n=8),加标回收率为93.2%~104.2%。该方法操作简便,测定结果准确、可靠,适用于快速检测高纯铝中硅元素,具有推广价值。 
Abstract:A method for determining silicon in high purity aluminum by inductively coupled plasma atomic emission spectrometry was established. Sample was dissolved with sodium hydroxide solution, and then acidified with HCl and HNO3. The analytical spectral lines of Si 251.611 nm was selected. The mass fraction of silicon in the range of 0.001%-0.01% had good linear relationship with the spectral intensity, the correlation coefficient was 0.9991. The detection limit of the method was 0.00012%, and the relative standard deviation of the test results was not more than 10.2%(n=8). The recoveries of the samples were 93.2%-104.2%. The method is easy to operate, accurate and reliable. It is suitable for the rapid detection of silicon in pure aluminum and has the value of popularization. 
关键词:电感耦合等离子体发射光谱法;高纯铝;硅元素 
Keywords:inductively coupled plasma atomic emission spectrometry; high purity aluminum; silicon 
本文引用格式:
谢文博,李刚,杨峥,等.电感耦合等离子体发射光谱法测定高纯铝中硅[J].化学分析计量,2020,29(3):30-33.
XIE W B,LI G,YANG Z,et al. Determination of silicon in high purity aluminum by inductively coupled plasma atomic emission spectrometry[J]. Chemical analysis and meterage,2020,29(3):30-33. 

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